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化學(xué)鍍鎳的工藝特點(diǎn)介紹

發(fā)布時(shí)間:2022-10-14 09:19:19

厚度均勻和均鍍能力好是化學(xué)鍍鎳的一大特點(diǎn),也是應(yīng)用廣泛的原因之一,化學(xué)鍍鎳避免了電鍍層由于電流分布不均勻而帶來(lái)的厚度不均勻,電鍍層的厚度在整個(gè)零件,尤其是形狀復(fù)雜的零件上差異很大,在零件的邊角和離陽(yáng)極近的部位,鍍層較厚,而在內(nèi)表面或離陽(yáng)極遠(yuǎn)的地方鍍層很薄,甚至鍍不到,采用化學(xué)鍍可避免電鍍的這一不足?;瘜W(xué)鎳廠家工作時(shí),只要零件表面和鍍液接觸,鍍液中消耗的成份能及時(shí)獲得補(bǔ)充,任何部位的鍍層厚度都基本相同,即使凹槽、縫隙、盲孔也是如此。

2、 不存在氫脆的問(wèn)題

電鍍是利用電源能將鎳陽(yáng)離子轉(zhuǎn)換成金屬鎳沉積到陽(yáng)極上,用化學(xué)還原的方法是使鎳陽(yáng)離子還原成金屬鎳并沉積在基體金屬表面上,試驗(yàn)表明,鍍層中氫的夾入與化學(xué)還原反應(yīng)無(wú)關(guān),而與電鍍條件有很大關(guān)系,通常鍍層中的含氫量隨電流密度的增加而上升。

在電鍍鎳液中,除了一小部分氫是由NiSO4和H2PO3反應(yīng)產(chǎn)生以外,大部分氫是由于兩極通電時(shí)發(fā)生電極反應(yīng)引起的水解而產(chǎn)生,在陽(yáng)極反應(yīng)中,伴隨著大量氫的產(chǎn)生,陰極上的氫與金屬Ni—P合金同時(shí)析出,形成(Ni—P)H,附著在沉積層中,由于陰極表面形成超數(shù)量的原子氫,一部分脫附生成H2,而來(lái)不及脫附的就留在鍍層內(nèi),留在鍍層內(nèi)的一部分氫擴(kuò)散到基體金屬中,而另一部分氫在基體金屬和鍍層的缺陷處聚集形成氫氣團(tuán),該氣團(tuán)有很高的壓力,在壓力作用下,缺陷處導(dǎo)致了裂紋,在應(yīng)力作用下,形成斷裂源,從而導(dǎo)致氫脆斷裂。氫不僅滲透到基體金屬中,而且也滲透到鍍層中。

3、 很多材料和零部件的功能如耐蝕、抗高溫氧化性等均是由材料和零部件的表面層體現(xiàn)出來(lái),在一般情況下可以采用某些具有特殊功能的化學(xué)鍍鎳層取代用其他方法制備的整體實(shí)心材料,也可以用廉價(jià)的基體材料化學(xué)鍍鎳代替有貴重原材料制造的零部件,因此,化學(xué)鍍鎳的經(jīng)濟(jì)效益是非常大的。

4、 可沉積在各種材料的表面上,例如:鋼鎳基合金、鋅基合金、玻璃、陶瓷、塑料、半導(dǎo)體等材料的表面上,從而為提高這些材料的性能創(chuàng)造了條件。

5、 不需要一般電鍍所需的直流電機(jī)或控制設(shè)備,熱處理溫度低,只要在400℃以下經(jīng)不同保溫時(shí)間后,可獲得不同的耐蝕性和耐磨性,因此,它不存在熱處理變形的問(wèn)題,特別適用于加工一些形狀復(fù)雜,表面要求耐磨和耐蝕的零部件等。

6、 化學(xué)沉積層的厚度可控,其工藝簡(jiǎn)單,操作方便,溫度低,成本比其它表面處理防護(hù)低,適用于在中、小型工廠或小批量生產(chǎn)。

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